제품 정보매엽 Process 장치
매엽 Plasma 질화·산화 장비(MARORA)
MARORA Single Wafer Plasma Nitridation·Oxidation System

MARORA는 차세대DRAM, Logic의 Gate 절연막 형성, Flash Memory의 절연막 형성에 최적인 장비입니다. MARORA는 독자적인 Plasma 생성 방식(MMT방식)을 이용하여 효율적으로 약1eV의 저전자 온도의 Plasma형성이 가능하고 Plasma Damage Free인 Plasma처리를 실현하고 있습니다.
MMT: Modified Magnetron Typed
Applications
Plasma질화
- 절연막질화
Plasma산화
- 박막 산화막 형성
- 선택 산화
- 이방성 산화
장비의 특징
HIGH Throughput:종래 Model의 최대 2배의 생산성실현
MMT Plasma원 탑재:기판 표면에 있어 Plasma의 고균일화와 Plasma의 저전자 온도화(~1eV)를 실현
광범위의 온도제어 가능:고온 Heater를 탑재
풍부한 Application:Plasma산화, Plasma질화에 더해서 Metal을 산화 하지 않고 Si를 선택적으로 산화하는「선택 산화」가 가능