제품 정보Batch Process 장비
Batch Thermal Process장비(QUIXACE)
QUIXACE Batch Thermal Process System for 300mm Wafers

QUIXACE는 당사의 코어(Core) 기술인 온도 제어기술, 자동 반송기술, 진공·가스 치환 기술, 냉각기술, 성막기술을 바탕으로, Cycle 시간을 단축하여 HIGH Throughput을 실현한 Batch처리 장비입니다.
Applications
LP CVD
산화
Anneal
장비의 특징
Large Batch 장비(최대125매 일괄처리)와 Mini Batch장비(최대50매 일괄처리)를 Line up
Short Cycle Time의 실현에 의한 HIGH Throughput
Gas Cleaning에 의한 Down Time저감, 가동률향상
고속 Ramp Up / Down Heater, Wafer 고속 반송 System탑재
분위기 제어(Option:진공L/L, N2 Purge)로 Process 성능 향상