| 홈제품 정보Batch Process 장비 |
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Batch Thermal Process장비(QUIXACE)
QUIXACE Batch Thermal Process System for 300mm Wafers
QUIXACE는 당사의 코어(Core) 기술인 온도 제어기술, 자동 반송기술, 진공·가스 치환 기술, 냉각기술, 성막기술을 바탕으로, Cycle 시간을 단축하여 HIGH Throughput을 실현한 Batch처리 장비입니다. |
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| Applications |
| LP CVD |
| 산화 |
| Anneal |
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| 장비의 특징 |
| Large Batch 장비(최대125매 일괄처리)와 Mini Batch장비(최대50매 일괄처리)를 Line up |
| Short Cycle Time의 실현에 의한 HIGH Throughput |
| Gas Cleaning에 의한 Down Time저감, 가동률향상 |
| 고속 Ramp Up / Down Heater, Wafer 고속 반송 System탑재 |
| 분위기 제어(Option:진공L/L, N2 Purge)로 Process 성능 향상 |
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